真空镀膜表面不光滑可能有多种原因，以下是一些可能的原因：

1. 基材表面不干净：在镀膜前，如果基材表面存在灰尘、污垢或者颗粒等杂质，就会影响镀膜的效果，导致表面不光滑。因此，在进行真空镀膜前，需要对基材表面进行彻底清洁。

2. 真空室不干净：除了基材表面外，真空室内部的灰尘、颗粒等杂质也会影响镀膜效果，导致表面不光滑。因此，在镀膜前，需要对真空室进行彻底清洁。

3. 蒸发源不干净：蒸发源是镀膜过程中的重要组成部分，如果蒸发源内部存在杂质或者结垢等，就会影响膜层的均匀性和光滑度。因此，在镀膜前，需要对蒸发源进行彻底清洁。

4. 真空度不够：真空度是影响镀膜效果的重要因素之一。如果真空度不够高，就会导致气体分子过多，从而影响膜层的均匀性和光滑度。因此，在进行真空镀膜时，需要保证真空室的真空度达到要求。

5. 基材与膜材料不匹配：不同的基材和膜材料之间具有不同的特性，如果基材与膜材料不匹配，就可能导致镀膜效果不佳，表面不光滑。因此，在进行真空镀膜时，需要根据不同的基材和膜材料进行选择和匹配。

6. 蒸发速率过快或过慢：蒸发速率过快或过慢都会影响镀膜的均匀性和光滑度。如果蒸发速率过快，可能会导致膜层厚度不均匀，产生粗糙表面；如果蒸发速率过慢，则可能会导致膜层结构松散，表面不平整。因此，在进行真空镀膜时，需要根据具体情况调整蒸发速率。

7. 温度过高或过低：温度是影响真空镀膜效果的重要因素之一。如果温度过高或过低，都会导致镀膜效果不佳，表面不光滑。因此，在进行真空镀膜时，需要保证温度在合适的范围内。

总之，真空镀膜表面不光滑的原因可能有很多种，需要根据具体情况进行分析和调整。在进行真空镀膜时，需要保证各个方面的条件都符合要求，才能得到光滑、均匀、高质量的薄膜表面。