PVD是物理气相沉积技术（Physical Vapor Deposition）的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

    离子镀膜技术是PVD技术的一种，是指在PVD沉积过程中，被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上。由于离子镀过程中，离子的能量更强，离子绕射性更好，膜层的结合力更好，膜层致密性也更好，膜层性能更好。

    离子镀膜技术的应用非常广泛，常见的有：装饰性镀膜，工具模具硬质镀膜以及各种功能膜层。