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产品分类
高尔夫金属配件PVD真空电镀
真空溅射镀膜
1、真空溅射镀膜的定义
给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。
2、磁控溅射镀膜的定义
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片，氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。
产品说明
真空溅射镀膜的特点
对于任何待镀材料,只有能做成靶材,就能实现溅射
溅射所获得的薄膜与基片结合良好
溅射所获得的薄膜纯度高,致密性好
溅射工艺可重复性好,膜厚可控制,同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜
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