长辰PVD工艺库 | 真空电镀-真空电镀厂_PVD工厂_真空镀膜_PVD_真空电镀_真空镀膜厂_纳米喷涂_AF防指纹_镀钛_IP离子镀

长辰PVD工艺库 | 真空电镀

来源：长辰实业日期：2021-12-03

真空电镀：Vacuum Metalizing，即是物理气相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。最早运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。

归档
中文名	真空电镀
英文名	Vacuum Metalizing
别称名	物理气相沉积（PVD）
技术分类	薄膜技术 > 物理气相沉积(PVD)
下属分类	物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD） > 真空蒸发（真空蒸发） > 磁控溅射（真空溅射） > 离子镀（真空离子镀）

工艺特点

工艺成本	模具费用（无）单件费用（中）批量生产（中）
典型应用	反射涂层；消费电子产品和隔热板的表面处理；
产量范围	单件到大批量皆可
质量优势	适合高质量，高亮和产品表面保护层
生产效率	速度慢，具体取决于设备内靶材存放量，通常为6小时/周期（包括喷漆工序）

适用材料

几乎所有金属、合金、及陶瓷材料。

自然材料会影响真空环境，不适合真空电镀。
除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（ABS料、ABS+PC料、PC料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。
最常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。

应用领域

真空蒸发应用领域

按技术分	典型应用
电阻加热	1）制镜工业 2）塑料、纸、钢板上金属化涂层
电子束加热	1）光学工业（如塑料透镜） 2）抗腐蚀和高温氧化涂层 3）热障涂层 4）塑料、纸、钢板上金属化涂层
感应加热	核工业
电弧加热	导电层
激光加热	超导薄膜

真空溅射应用领域

按行业分	应用分类
电子工业	IC半导体	电极，引线。绝缘层，表面钝化膜
	显示元件	透明导电膜，光色膜，绝缘膜，表面钝化膜
	磁记录	软/硬性磁膜，磁头缝隙材料，绝缘层，特殊材料
	磁记录	软/硬性磁膜，磁头缝隙材料，绝缘层，特殊材料
	约瑟夫森元件	超导膜，绝缘膜
	光电子学	光IC
	其他电子元件	电阻薄膜，印刷机薄膜热写头，压电薄膜，电极引线
太阳能利用	太阳能电池，选择吸收膜，选择反射膜
光学应用	反射镜，光栅
机械、化学应用	润滑，耐磨损，耐腐蚀，耐热
塑料工业	塑料装饰，硬化

真空离子镀应用领域

按应用分	材料：典型应用
表面硬化	型钢、低碳钢：模具、机器零件不锈钢：手表壳硬质合金、高速钢：刀具、模具
耐腐蚀	高纯钢：飞机、船舶低碳钢螺栓：一般结构用材料
装饰	不锈钢、黄铜：手表、装饰品、建筑装饰塑料：着色涂层、塑料镜片镀玻璃
电子工业	Si薄膜：导电膜、集成电路金属：电容陶瓷、树脂：印刷板、薄膜集成电路铜合金：触点材料石英：耐火陶瓷—金属焊接
光学	玻璃：镜片耐磨涂层透明塑料：眼镜用镜片
核能	铀：核反应堆 ZrAI：核聚变装置铜壳体：加速器
塑料	ABS塑料：汽车零件、电器零件
耐高温腐蚀	Ni基或Co基高温合金：发动机叶片
耐热	钢、不锈钢：排气管、耐火金属材料

设计考虑因素

真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。
真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，不适合大靶材，常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑，否则会影响处理效果。
真空电镀可镀色彩丰富，可以镀7色，比水电镀的颜色要丰富，可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜和炮铜（一种铜锡合金）等丰富多彩的效果。水电镀一般只有镀铜（红色），镀镍（偏黄的银色），镀金，镀银，镀枪（黑色，有深黑，浅黑等），镀铬（银白色）等单调色彩。
真空电镀是最常见的金属表面处理技术。

工艺成本

真空电镀工艺流程复杂，非常依赖人工操作。工件（靶材）需要喷涂、装卸、再喷涂，并且也取决于工件的复杂度和数量，所以人力成本很高。

环境影响

真空环境下辐射小、环境污染小，真空电镀现为各行业中广泛应用。

步骤：在工件上先喷一层底漆，再做电镀。由于工件是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分。另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况。喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现。

真空蒸发镀工艺流程

工件>镀前处理>装件>烘烤>离子轰击>预熔>蒸发沉积>冷却>取件>后处理>成品

真空溅射镀工艺流程

工件>镀前处理>装件>抽真空>烘烤、轰击>预熔>溅射沉积>冷却>取件>后处理>成品

真空离子镀工艺流程

工件>镀前处理>装件>抽真空>烘烤>离子轰击>离子沉积>冷却>取件>后处理>成品