无论是哪种真空镀膜机镀制的薄膜，其均匀性都会遭到某种要素影响，如今咱们就磁控溅射真空镀膜机来看看形成不均匀的要素有哪些。

   磁控溅射真空镀膜机的运作即是经过真空状况下正交磁场使电子炮击氩气构成的氩离子再炮击靶材，靶材离子堆积于工件外表成膜。如此咱们能够思考与膜层厚度的均匀性有关的有真空状况、磁场、氩气这三个方面。

   真空状况就需要抽气体系来操控的，每个抽气口都要一起开动并力度共同，这么就能够操控好抽气的均匀性，假如抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在必定的影响的。另外抽气的时刻也要操控，太短会形成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空计的存在，要操控好仍是不成问题的。

   磁场是正交运作的，但你要把磁场强度做到百分之一百均匀是不可能的，通常磁场强的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以会形成膜层厚度的不共同，不过在生产过程中，因为磁场的不均匀导致的膜层不均匀的状况却不是常见的，为何呢?本来磁场强弱尽管不好操控，但一起工件也在一起工作，而且是靶材原子屡次堆积才会结束镀膜工序，在一段时刻内尽管某些部位厚，某些部位薄，但另一个时刻内，磁场强的效果下在本来薄的部位堆积上厚的，在厚的部位堆积上薄的，如此屡次，全部膜层终究成膜后，均匀性仍是比较不错的。

   氩气的送气均匀性也会对膜层的均匀性发生影响，原理本来和真空度差不多，因为氩气的进入，真空室内压强会发生改变，均匀的压强巨细能够操控成膜厚度的均匀性。

   尽管老是会有那么几种要素形成膜层的不均匀，但假如准确的把真空镀膜机的操作做到位了，那么膜层的合格率是很高的。